Влияние облучения низкоэнергетическими ионами гелия на спектральный коэффициент отражения монокристаллических молибденовых зеркал

Представлены результаты сравнительного исследования влияния облучения ионами гелия на оптические свойства монокристаллических молибденовых зеркал с кристаллографической ориентацией $\langle$110$\rangle$ и $\langle$111$\rangle$. Режим облучения соответствует условиям во встроенных системах плазменной очистки входных зеркал от загрязнений в оптических диагностиках международного термоядерного реактора ИТЭР при использовании гелия в качестве рабочего газа. В результате такого облучения происходит изменение зеркального отражения и диффузного рассеяния зеркала, которое практически не зависит от начальной структуры приповерхностного слоя зеркала и длительности процесса облучения. Авторы объясняют наблюдаемые изменения оптических характеристик зеркала формированием в приповерхностном скин-слое наноразмерных пузырьков. Рэлеевское рассеяние на них падающего излучения уменьшает интенсивность зеркального отражения и увеличивает диффузное рассеяние. Предложена модель образования и роста наноразмерных пузырьков и их влияния на оптические свойства. Полученные результаты следует учитывать при анализе экспериментальных данных в оптических диагностиках ИТЭР после удаления загрязнений с использованием гелия, при выборе рабочего газа для систем плазменной очистки зеркал, а также для формирования нанопористой структуры в тонком поверхностном слое металлов.