Журнал технической физики
RUS  ENG    ЖУРНАЛЫ   ПЕРСОНАЛИИ   ОРГАНИЗАЦИИ   КОНФЕРЕНЦИИ   СЕМИНАРЫ   ВИДЕОТЕКА   ПАКЕТ AMSBIB  
Общая информация
Последний выпуск
Архив
Правила для авторов

Поиск публикаций
Поиск ссылок

RSS
Последний выпуск
Текущие выпуски
Архивные выпуски
Что такое RSS


ЖТФ:
Год:
Том:
Выпуск:
Страница:
Найти




Персональный вход:
Логин:
Пароль:
Запомнить пароль
Войти
Забыли пароль?
Регистрация

Журнал технической физики, 2021, том 91, выпуск 10, страницы 1517–1523
DOI: https://doi.org/10.21883/JTF.2021.10.51365.96-21 (Mi jtf4921) 		 
Эта публикация цитируется в 1 научной статье (всего в 1 статье)

XXV Международный симпозиум Нанофизика и наноэлектроника, Н. Новгород, 9--12 марта 2021 г.
Физика низкоразмерных структур

Влияние параметров метода PECVD на рост углеродных нанотрубок для устройств нанопьезотроники

Н. Н. Рудыкa, О. И. Ильинa, М. В. Ильинаa, С. А. Хубежовb, А. А. Федотовa, О. А. Агеевac

a Южный федеральный университет, Институт нанотехнологий, электроники и приборостроения
b Северо-Осетинский государственный университет им. К. Л. Хетагурова, г. Владикавказ
c Южный федеральный университет, НОЦ "Нанотехнологии", 347922 Таганрог, Россия
PDF полного текста (2331 kB) Список цитирования (1)
DOI: https://doi.org/10.21883/JTF.2021.10.51365.96-21
Аннотация: Представлены результаты экспериментальных исследований влияния температуры роста и толщины каталитического слоя на геометрические и структурные параметры углеродных нанотрубок (УНТ). Показано, что применение подслоя на основе TiN позволяет обеспечить низкое удельное сопротивление при непосредственном выращивании УНТ на проводящем контакте. Установлено, что для формирования лучшего пьезоэлектрического отклика необходимо формировать наиболее дефектные УНТ. Показано, что степенью дефектности УНТ возможно контролируемо управлять в процессе их выращивания. Установлена связь между геометрическими и структурными параметрами УНТ, влияющими на пьезоэлектрический отклик. Показана потенциальная применимость УНТ для создания на их основе устройств нанопьезотроники (наногенераторов, нанохарвестеров энергии).
Ключевые слова: углеродные нанотрубки, PECVD, нанопьезотроника, пьезоэлектрический отклик, рамановская спектроскопия.
Финансовая поддержка Номер гранта
Российский фонд фундаментальных исследований 20-37-70034
Российский научный фонд 20-79-00284
Исследование влияния режимов выращивания на структуру и геометрические параметры УНТ выполнено при финансовой поддержке Российского фонда фундаментальных исследований (проект № 20-37-70034). Исследование влияния толщины каталитического слоя Ni на пьезоэлектрический отклик выполнено при поддержке Российского научного фонда (проект № 20-79-00284).
Поступила в редакцию: 02.04.2021
Исправленный вариант: 02.04.2021
Принята в печать: 02.04.2021
Англоязычная версия:
Technical Physics, 2022, Volume 67, Issue 1, Pages 34–40
DOI: https://doi.org/10.1134/S1063784222010121
Реферативные базы данных:
Тип публикации: Статья
Образец цитирования: Н. Н. Рудык, О. И. Ильин, М. В. Ильина, С. А. Хубежов, А. А. Федотов, О. А. Агеев, “Влияние параметров метода PECVD на рост углеродных нанотрубок для устройств нанопьезотроники”, ЖТФ, 91:10 (2021), 1517–1523; Tech. Phys., 67:1 (2022), 34–40
Цитирование в формате AMSBIB
\RBibitem{RudIliIli21}
\by Н.~Н.~Рудык, О.~И.~Ильин, М.~В.~Ильина, С.~А.~Хубежов, А.~А.~Федотов, О.~А.~Агеев
\paper Влияние параметров метода PECVD на рост углеродных нанотрубок для устройств нанопьезотроники
\jour ЖТФ
\yr 2021
\vol 91
\issue 10
\pages 1517--1523
\mathnet{http://mi.mathnet.ru/jtf4921}
\crossref{https://doi.org/10.21883/JTF.2021.10.51365.96-21}
\elib{https://elibrary.ru/item.asp?id=46491206}
\transl
\jour Tech. Phys.
\yr 2022
\vol 67
\issue 1
\pages 34--40
\crossref{https://doi.org/10.1134/S1063784222010121}
Образцы ссылок на эту страницу:
  • https://www.mathnet.ru/rus/jtf4921
  • https://www.mathnet.ru/rus/jtf/v91/i10/p1517
    • Эта публикация цитируется в следующих 1 статьяx:
    Citing articles in Google Scholar: Russian citations, English citations
    Related articles in Google Scholar: Russian articles, English articles
    		Журнал технической физики Журнал технической физики
     
      Обратная связь:
    		  Пользовательское соглашение  Регистрация посетителей портала  Логотипы © Математический институт им. В. А. Стеклова РАН, 2025