|
Твердотельная электроника
GaAs/AlGaAs- и InGaAs/AlGaAs-гетероструктуры для мощных полупроводниковых инфракрасных излучателей
Д. В. Гуляевa, Д. В. Дмитриевa, Н. В. Фатеевa, Д. Ю. Протасовab, А. С. Кожуховa, К. С. Журавлевa a Институт физики полупроводников им. А. В. Ржанова СО РАН, г. Новосибирск
b Новосибирский государственный технический университет
Аннотация:
Определен внутренний квантовый выход люминесценции GaAs/AlGaAs- и InGaAs/AlGaAs-гетероструктур для инфракрасных светодиодов. Исследовано влияние ростовых условий гетероструктур, выращенных методом молекулярно-лучевой эпитаксии и пост-ростового отжига на квантовый выход гетероструктур. Показано, что совокупной оптимизацией данных процессов удается повысить квантовый выход люминесценции исследуемых гетероструктур до 75–80% при умеренной мощности накачки.
Ключевые слова:
гетероструктуры, кельвиновская зондовая микроскопия, молекулярно-лучевая эпитаксия.
Поступила в редакцию: 12.05.2021 Исправленный вариант: 28.06.2021 Принята в печать: 01.07.2021
Образец цитирования:
Д. В. Гуляев, Д. В. Дмитриев, Н. В. Фатеев, Д. Ю. Протасов, А. С. Кожухов, К. С. Журавлев, “GaAs/AlGaAs- и InGaAs/AlGaAs-гетероструктуры для мощных полупроводниковых инфракрасных излучателей”, ЖТФ, 91:11 (2021), 1727–1731
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/jtf4898 https://www.mathnet.ru/rus/jtf/v91/i11/p1727
|
Статистика просмотров: |
Страница аннотации: | 102 | PDF полного текста: | 71 |
|