|
Журнал технической физики, 1986, том 56, выпуск 8, страницы 1562–1568
(Mi jtf317)
|
|
|
|
Эта публикация цитируется в 2 научных статьях (всего в 2 статьях)
Плазма
Скорость диссоциации молекулярного водорода в приэлектродном слое
низкотемпературной плазмы
Ф. Г. Бакшт, В. Г. Иванов Физико-технический институт им. А. Ф. Иоффе АН СССР,Ленинград
Аннотация:
Теоретически определена скорость диссоциации молекулярного
водорода в приэлектродном слое плазмы сильноточного низковольтного разряда.
Учтено наличие неравновесного распределения по энергии у свободных
электронов, связанного с инъекцией электронного пучка с катода в водородную
плазму. В уравнениях электронно-колебательной кинетики учтены процессы
$v{-}v$ обмена, $v{-}t$ обмена с атомами и молекулами водорода, процессы
$e{-}v$ обмена и диссоциативного прилипания под действием тепловых
электронов плазмы, процессы прямой диссоциации под действием тепловых
электронов и электронов пучка. Показано, что наличие в прикатодной области
низковольтного разряда в водороде пучка неравновесных электронов катодной
эмиссии приводит к существенному увеличению скорости диссоциации при токах
эмиссии ${{}\gtrsim10\,\text{А/см}^{2}}$ и степенях ионизации плазмы
${{}\lesssim10^{-3}}$. Определена концентрация отрицательных ионов водорода,
образующихся в приэлектродном слое вследствие диссоциативного прилипания,
и показано, что она может достигать значительной величины при параметрах,
характерных для плазмы низковольтного разряда в водороде.
Поступила в редакцию: 30.07.1985
Образец цитирования:
Ф. Г. Бакшт, В. Г. Иванов, “Скорость диссоциации молекулярного водорода в приэлектродном слое
низкотемпературной плазмы”, ЖТФ, 56:8 (1986), 1562–1568
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/jtf317 https://www.mathnet.ru/rus/jtf/v56/i8/p1562
|
Статистика просмотров: |
Страница аннотации: | 52 | PDF полного текста: | 112 |
|