|
Журнал технической физики, 1986, том 56, выпуск 8, страницы 1552–1561
(Mi jtf316)
|
|
|
|
Плазма
Захват ионов в прикатодную потенциальную яму и его влияние
на поджиг разряда I. Стационарный поджиг
А. А. Богданов, А. М. Марциновский Физико-технический институт им. А. Ф. Иоффе АН СССР, Ленинград
Аннотация:
В стационарных предподжиговых режимах плоского
диода, заполненного парами цезия, исследовано заполнение прикатодной
потенциальной ямы медленными ионами, образовавшимися в результате
перезарядки. Приводятся предподжиговые вольт-амперные характеристики диода
в диапазоне давлений цезия ${p=10^{-3}\div2\cdot10^{-1}}$ Тор для токов
эмиссии до 10 А/см$^{2}$. Зондовыми и оптическими методами
показана трансформация потенциального рельефа по зазору и образование
прикатодной плазмы и анодного слоя. В полетных по электронам режимах
с прикатодной плазмой обнаружены колебания тока с периодом $\sim$ мкс.
Показано, что образование прикатодной плазмы изменяет напряжение
поджига и увеличивает предельный предподжиговый ток в 100 и более раз.
Поступила в редакцию: 19.07.1985
Образец цитирования:
А. А. Богданов, А. М. Марциновский, “Захват ионов в прикатодную потенциальную яму и его влияние
на поджиг разряда I. Стационарный поджиг”, ЖТФ, 56:8 (1986), 1552–1561
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/jtf316 https://www.mathnet.ru/rus/jtf/v56/i8/p1552
|
Статистика просмотров: |
Страница аннотации: | 36 | PDF полного текста: | 23 |
|