|
Журнал технической физики, 1983, том 53, выпуск 3, страницы 545–549
(Mi jtf2240)
|
|
|
|
К вопросу о кинетике роста в равновесной электрожидкостной эпитаксии
В. А. Геворкян, Л. В. Голубев, А. Е. Хачатрян, Ю. В. Шмарцев
Аннотация:
Рассмотрено распределение температуры в кристаллизационной
системе с учетом влияния границ раздела источника и подложки с электродами
и с учетом типа проводимости материала источника и подложки. Показано, что
температурное распределение в этом случае имеет некоторые особенности,
которые приводят к изменению в значении стационарной скорости роста пленки.
Образец цитирования:
В. А. Геворкян, Л. В. Голубев, А. Е. Хачатрян, Ю. В. Шмарцев, “К вопросу о кинетике роста в равновесной электрожидкостной эпитаксии”, ЖТФ, 53:3 (1983), 545–549
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/jtf2240 https://www.mathnet.ru/rus/jtf/v53/i3/p545
|
Статистика просмотров: |
Страница аннотации: | 38 | PDF полного текста: | 24 |
|