|
Журнал технической физики, 1983, том 53, выпуск 2, страницы 315–319
(Mi jtf2189)
|
|
|
|
Расчеты времен оже-процессов в твердых растворах
$p$-InGaAsP
Д. З. Гарбузов, З. Н. Соколова, В. Б. Халфин
Аннотация:
Рассчитаны времена межзонной и примесной оже-рекомбинаций
для ряда твердых растворов $p$-InGaAsP, изорешеточных с подложкой InP.
На основании сопоставления времен безызлучательных переходов с расчетными
временами излучательных переходов для этих твердых растворов с различным
уровнем легирования акцепторами получены зависимости внутреннего квантового
выхода от состава, температуры и концентрации дырок. Установлено, что в
узкозонных твердых растворах InGaAsP оезызлучательная оже-рекомбинация может
уменьшать внутренний квантовый выход люминесценции уже начиная с концентрации
дырок ${p=10^{17}\,\text{см}^{-3}}$. Проведено сопоставление
с экспериментальными результатами по зависимости эффективности излучения от
концентрации дырок для твердого раствора
In$_{0.73}$Ga$_{0.27}$As$_{0.60}$P$_{0.40}$, легированного цинком.
Образец цитирования:
Д. З. Гарбузов, З. Н. Соколова, В. Б. Халфин, “Расчеты времен оже-процессов в твердых растворах
$p$-InGaAsP”, ЖТФ, 53:2 (1983), 315–319
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/jtf2189 https://www.mathnet.ru/rus/jtf/v53/i2/p315
|
Статистика просмотров: |
Страница аннотации: | 55 | PDF полного текста: | 22 |
|