|
Журнал технической физики, 1984, том 54, выпуск 3, страницы 551–557
(Mi jtf1707)
|
|
|
|
Квантовая электроника
Низкопороговые инжекционные лазеры на основе зарощенных
гетероструктур
GaInPAs/InP (1.2$-$1.6 мкм)
В. П. Авдеева, В. В. Безотосный, М. Г. Васильев, Л. М. Долгинов, А. Е. Дракин, В. П. Дураев, П. Г. Елисеев, Н. В. Малькова, М. Г. Мильвидский, Б. Н. Свердлов, В. А. Скрипкин, Е. Г. Шевченко Физический институт им. П. Н. Лебедева АН СССР, Москва
Аннотация:
Лазерные зарощенные полосковые гетероструктуры
на основе GaInPAs/InP изготовлены методом жидкофазной двухэтажной эпитаксии
на подложках $p$-InP. Изучены боковое оптическое ограничение
и эффективность электрической изоляции (с помощью встречных $p{-}n$ переходов
и высокоомного материала заращивания). Получены непрерывные инжекционные
лазеры с пороговым током менее 50 мА при комнатной температуре (минимальное
значение 15 мА в диапазоне 1.3 мкм и 23 мА в диапазоне
1.55$-$1.60 мкм). Исследованы спектры усиления, зависимости усиления от тока
накачки и модовая структура лазерного излучения. Максимальная рабочая
температура непрерывного режима составила более $90^{\circ}$С.
Поступила в редакцию: 31.03.1983
Образец цитирования:
В. П. Авдеева, В. В. Безотосный, М. Г. Васильев, Л. М. Долгинов, А. Е. Дракин, В. П. Дураев, П. Г. Елисеев, Н. В. Малькова, М. Г. Мильвидский, Б. Н. Свердлов, В. А. Скрипкин, Е. Г. Шевченко, “Низкопороговые инжекционные лазеры на основе зарощенных
гетероструктур
GaInPAs/InP (1.2$-$1.6 мкм)”, ЖТФ, 54:3 (1984), 551–557
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/jtf1707 https://www.mathnet.ru/rus/jtf/v54/i3/p551
|
|