|
КОНДЕНСИРОВАННОЕ СОСТОЯНИЕ
Локальная диагностика спиновых дефектов в облученных SiC-диодах Шоттки
К. В. Лихачевa, А. М. Скомороховa, М. В. Учаевa, Ю. А. Успенскаяa, В. В. Козловскийb, М. Е. Левинштейнa, И. А. Елисеевa, А. Н. Смирновa, Д. Д. Крамущенкоa, Р. А. Бабунцa, П. Г. Барановa a Физико-технический институт им. А. Ф. Иоффе РАН, 194021 С.-Петербург, Россия
b Санкт-Петербургский политехнический университет Петра Великого, 195251 С.-Петербург, Россия
Аннотация:
Впервые зарегистрированы спектры антипересечения спиновых подуровней и идентифицированы центры окраски со спином $S = 3/2$ в коммерчески доступных диодах Шоттки на основе 4H-SiC, подвергнутых облучению электронами с энергией $0.9$ МэВ или протонами с энергией $15$ МэВ. Показано влияние дозы облучения на процесс дефектообразования. Продемонстрировано, что повышение температуры, при которой проводилось облучение протонами, играет роль краткосрочного отжига, приводящего к уменьшению концентрации точечных дефектов.
Поступила в редакцию: 23.07.2024 Исправленный вариант: 31.07.2024 Принята в печать: 31.07.2024
Образец цитирования:
К. В. Лихачев, А. М. Скоморохов, М. В. Учаев, Ю. А. Успенская, В. В. Козловский, М. Е. Левинштейн, И. А. Елисеев, А. Н. Смирнов, Д. Д. Крамущенко, Р. А. Бабунц, П. Г. Баранов, “Локальная диагностика спиновых дефектов в облученных SiC-диодах Шоттки”, Письма в ЖЭТФ, 120:5 (2024), 367–373
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/jetpl7316 https://www.mathnet.ru/rus/jetpl/v120/i5/p367
|
|