|
КОНДЕНСИРОВАННОЕ СОСТОЯНИЕ
Рост силицена методом молекулярно-лучевой эпитаксии на подложках CaF$_2$/Si(111), модифицированных электронным облучением
А. Ф. Зиновьеваab, В. А. Зиновьевa, А. В. Кацюбаa, В. А. Володинab, В. И. Муратовb, А. В. Двуреченскийab a Институт физики полупроводников Сибирского отделения РАН, 630090 Новосибирск, Россия
b Новосибирский государственный университет, 630090 Новосибирск, Россия
Аннотация:
Впервые экспериментально продемонстрирована возможность получения силицена на модифицированных электронным облучением подложках CaF$_2$/Si(111). Показано, что формирующиеся под электронным пучком участки планарной поверхности CaSi$_2$ с гексагональной упаковкой могут быть использованы как естественная основа для последующего роста силицена. На таких поверхностях проведено осаждение кремния и методами атомно-силовой микроскопии и спектроскопии комбинационного рассеяния света получено подтверждение формирования островков силицена.
Поступила в редакцию: 06.03.2024 Исправленный вариант: 30.03.2024 Принята в печать: 01.04.2024
Образец цитирования:
А. Ф. Зиновьева, В. А. Зиновьев, А. В. Кацюба, В. А. Володин, В. И. Муратов, А. В. Двуреченский, “Рост силицена методом молекулярно-лучевой эпитаксии на подложках CaF$_2$/Si(111), модифицированных электронным облучением”, Письма в ЖЭТФ, 119:9 (2024), 692–696; JETP Letters, 119:9 (2024), 703–707
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/jetpl7220 https://www.mathnet.ru/rus/jetpl/v119/i9/p692
|
Статистика просмотров: |
Страница аннотации: | 11 | Список литературы: | 5 | Первая страница: | 1 |
|