О принципиальном отличии воздействия электрических и механических колебаний на динамику волны зарядовой плотности

Сопоставлены эффекты воздействия электрических и деформационных высокочастотных полей на депиннинг и скольжение волны зарядовой плотности в квазиодномерном проводнике TaS$_3$. Для обоих типов полей исследованы зависимости величины порогового напряжения, $V_t$, ($0$-й ступеньки Шапиро) от амплитуды. Если с увеличением электрического высокочастотного поля, $E_{\text{rf}}$, видна тенденция к ускорению снижения $V_t$ – росту $|dV_t/dE_{rf}|$, с увеличением деформационного поля снижение $V_t$ насыщается. Результат показывает качественное различие механизмов воздействия электрических и деформационных полей на динамику волны зарядовой плотности и объясняется тем, что в первом случае модулируется скорость скольжения волны зарядовой плотности, а во втором – потенциал пиннинга. В практическом плане, результат позволяет отличить механическое воздействие на динамику волны зарядовой плотности от воздействия электрических наводок на той же частоте.