|
КОНДЕНСИРОВАННОЕ СОСТОЯНИЕ
Корреляционная кулоновская щель при магнитотуннелировании между слоями графена
Ю. Н. Ханинa, Е. Е. Вдовинa, С. В. Морозовa, К. С. Новоселовb a Институт проблем технологии микроэлектроники и особо чистых материалов РАН, 142432 Черноголовка, Россия
b Institute for Functional Intelligent Materials, National University of Singapore, Building S9, 4 Science Drive 2, 117544 Singapore
Аннотация:
Обнаружено сильное подавление равновесного магнитотуннелирования в гетероструктуре графен/$hBN$/графен, обусловленное корреляционной кулоновской щелью в туннельной плотности состояний. Сравнение подавления равновесной туннельной проводимости $G_0$ в сильном магнитном поле при понижении температуры и зависимости ширины наблюдаемой щели $\Delta$ от величины фактора заполнения уровней Ландау $\nu$ с результатами аналогичных экспериментов в GaAs гетероструктурах показало их качественное подобие и подтвердило нашу гипотезу о природе эффекта. При этом, однако, полученная нами величина $\Delta$ значительно превосходит измеренные во всех предыдущих работах в полупроводниковых гетероструктурах, что связано, вероятно, с большим масштабом циклотронных энергий в графене по сравнению с GaAs в интервале нижних уровней Ландау.
Поступила в редакцию: 21.06.2023 Исправленный вариант: 02.08.2023 Принята в печать: 03.08.2023
Образец цитирования:
Ю. Н. Ханин, Е. Е. Вдовин, С. В. Морозов, К. С. Новоселов, “Корреляционная кулоновская щель при магнитотуннелировании между слоями графена”, Письма в ЖЭТФ, 118:6 (2023), 438–444; JETP Letters, 118:6 (2023), 433–438
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/jetpl7042 https://www.mathnet.ru/rus/jetpl/v118/i6/p438
|
Статистика просмотров: |
Страница аннотации: | 34 | Список литературы: | 13 | Первая страница: | 8 |
|