|
Эта публикация цитируется в 2 научных статьях (всего в 2 статьях)
КОНДЕНСИРОВАННОЕ СОСТОЯНИЕ
Плазменные возбуждения в SiGe/Si квантовых ямах
А. Р. Хисамееваa, А. В. Щепетильниковab, Г. А. Николаевa, С. А. Лопатинаab, Я. В. Федотоваa, И. В. Кукушкинa a Институт физики твердого тела РАН, 142432 Черноголовка, Россия
b Национальный исследовательский университет “Высшая школа экономики”, 101000 Москва, Россия
Аннотация:
Было проведено подробное исследование плазменных и магнитоплазменных возбуждений в высококачественных нелегированных двумерных системах на основе SiGe/Si квантовых ям. Двумерная электронная система формировалась при приложении напряжения к верхнему затвору, частично прозрачного для субтерагерцового излучения в частотном диапазоне $20{-}160$ ГГц. Для сравнения также приведены результаты для SiGe/Si квантовых ям с $\delta$-слоем легирования Sb. Были непосредственно определены транспортные и квантовые времена рассеяния для обеих структур. Было установлено, что величина эффективной массы электронов практически не зависит от плотности двумерных электронов в широком диапазоне значений.
Поступила в редакцию: 28.04.2023 Исправленный вариант: 01.06.2023 Принята в печать: 01.06.2023
Образец цитирования:
А. Р. Хисамеева, А. В. Щепетильников, Г. А. Николаев, С. А. Лопатина, Я. В. Федотова, И. В. Кукушкин, “Плазменные возбуждения в SiGe/Si квантовых ямах”, Письма в ЖЭТФ, 118:1 (2023), 55–61; JETP Letters, 118:1 (2023), 67–73
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/jetpl6985 https://www.mathnet.ru/rus/jetpl/v118/i1/p55
|
Статистика просмотров: |
Страница аннотации: | 78 | Список литературы: | 21 | Первая страница: | 7 |
|