|
Эта публикация цитируется в 9 научных статьях (всего в 9 статьях)
КОНДЕНСИРОВАННОЕ СОСТОЯНИЕ
Деформационно-стимулированная локализация электронов в слоях квантовых точек Ge/Si 2-го типа
А. И. Якимовab, В. В. Кириенкоa, А. А. Блошкинac, В. А. Армбристерa, А. В. Двуреченскийca a Институт физики полупроводников им. Ржанова СО РАН, 630090 Новосибирск, Россия
b Томский государственный университет, 634050 Томск, Россия
c Новосибирский государственный университет, 630090 Новосибирск, Россия
Аннотация:
Методом фототоковой спектроскопии изучены электронные состояния в многослойных гетероструктурах Ge/Si с различным периодом расположения слоев квантовых точек Ge. Обнаружено увеличение энергии связи электронов при уменьшении толщины кремниевого спэйсера и растяжении слоев Si вблизи вершин нанокластеров Ge. Полученные результаты являются экспериментальным свидетельством деформационного механизма происхождения локализованных электронных состояний в гетероструктурах Ge/Si с квантовыми точками 2-го типа.
Поступила в редакцию: 24.04.2015
Образец цитирования:
А. И. Якимов, В. В. Кириенко, А. А. Блошкин, В. А. Армбристер, А. В. Двуреченский, “Деформационно-стимулированная локализация электронов в слоях квантовых точек Ge/Si 2-го типа”, Письма в ЖЭТФ, 101:11 (2015), 846–850; JETP Letters, 101:11 (2015), 750–753
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/jetpl4648 https://www.mathnet.ru/rus/jetpl/v101/i11/p846
|
|