|
Эта публикация цитируется в 2 научных статьях (всего в 2 статьях)
КОНДЕНСИРОВАННОЕ СОСТОЯНИЕ
Анализ структуры и магнитных свойств интерфейса в многослойных
наноструктурах (Fe/Si)$_{N}$ с применением поверхностно-чувствительного
метода XMCD
М. С. Платуновabc, С. Н. Варнаковbc, С. М. Жарковac, Г. В. Бондаренкоc, И. Весчкеd, И. Счайлеd, С. Г. Овчинниковabc a Сибирский федеральный университет, г. Красноярск
b Сибирский государственный аэрокосмический университет имени академика М. Ф. Решетнева
c Институт физики им. Л. В. Киренского СО РАН, г. Красноярск
d BESSY~II, Helmholtz-Zentrum Berlin
Аннотация:
Представлены результаты исследования структурных и магнитных
свойств наноструктур (Fe/Si)$_{N}$, полученных при последовательном напылении
на поверхность SiO$_{2}$/Si(100) при температуре подложки $300$ K. Измерения
методом просвечивающей электронной микроскопии позволили определить толщины
всех слоев Fe и Si. Магнитные свойства исследованы методом рентгеновского
магнитного кругового дихроизма (XMCD) вблизи $L_{3,2}$-краев
поглощения Fe. Разделены орбитальный (\emph{m$_{l}$}) и спиновый
(\emph{m$_{S}$}) вклады в полный магнитный момент железа. С использованием
поверхностной чувствительности метода XMCD и модели интерфейса из немагнитной
и ослабленной магнитной фаз, определены толщины магнитного и немагнитного
силицида Fe на интерфейсах Si/Fe и Fe/Si.
Поступила в редакцию: 19.05.2014
Образец цитирования:
М. С. Платунов, С. Н. Варнаков, С. М. Жарков, Г. В. Бондаренко, И. Весчке, И. Счайле, С. Г. Овчинников, “Анализ структуры и магнитных свойств интерфейса в многослойных
наноструктурах (Fe/Si)$_{N}$ с применением поверхностно-чувствительного
метода XMCD”, Письма в ЖЭТФ, 99:12 (2014), 817–823; JETP Letters, 99:12 (2014), 706–711
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/jetpl3761 https://www.mathnet.ru/rus/jetpl/v99/i12/p817
|
Статистика просмотров: |
Страница аннотации: | 192 | PDF полного текста: | 63 | Список литературы: | 49 | Первая страница: | 19 |
|