Исследование структурных и магнитных характеристик эпитаксиальных пленок Fe$_3$Si/Si(111)

Представлены результаты структурных и магнитных исследований эпитаксиальной структуры, полученной при одновременном напылении из двух источников железа и кремния на атомарно чистую поверхность Si(111)7$\times$7 при температуре подложки $150\,^\circ$С. Методами рентгеноструктурного анализа, просвечивающей электронной микроскопии и дифракции отраженных быстрых электронов эпитаксиальная структура идентифицирована как монокристаллическая пленка силицида Fe$_3$Si с ориентацией Si[111]$\parallel$Fe$_3$Si[111]. Установлено, что эпитаксиальная пленка Fe$_3$Si при комнатной температуре обладает магнитной одноосной анизотропией ($H_a=26\,$Э) и имеет сравнительно узкую линию однородного ферромагнитного резонанса ($\Delta H=11.57\,$Э), измеренную на частоте накачки $2.274$ ГГц.