|
Письма в Журнал экспериментальной и теоретической физики, 2002, том 75, выпуск 2, страницы 103–108
(Mi jetpl3031)
|
|
|
|
Эта публикация цитируется в 15 научных статьях (всего в 15 статьях)
КОНДЕНСИРОВАННЫЕ СРЕДЫ
Когерентное туннелирование между элементарными проводящими слоями в проводнике с волной зарядовой плотности NbSe$\mathbf{_3}$
Ю. И. Латышевa, А. А. Синченкоbc, Л. Н. Булаевскийd, В. Н. Павленкоa, П. Монсоc a Институт радиотехники и электроники им. В. А. Котельникова РАН, г. Москва К-9
b Московский инженерно-физический институт (государственный университет)
c Centre de Recherches sur les Très Basses Températures
d Los Alamos National Laboratory
Аннотация:
Исследованы особенности поперечного транспорта в направлении кристаллографической оси $a^*$ в проводнике с волной зарядовой плотности (ВЗП) NbSe$_3$. При низких температурах на ВАХ слоистых структур и точечных контактов NbSe$_3$-NbSe$_3$ наблюдаются сильный пик динамической проводимости при нулевом напряжении смещения и, на слоистых структурах, серия пиков при напряжениях, кратных удвоенной пайерлсовской щели. Обнаруженное поведение во многом напоминает межслоевую туннельную проводимость в высокотемпературных слоистых сверхпроводниках типа Bi-2212. Пик проводимости при нулевом смещении объяснен в модели почти когерентного межслоевого туннелирования несконденсированных в ВЗП носителей.
Поступила в редакцию: 05.11.2001 Исправленный вариант: 17.12.2001
Образец цитирования:
Ю. И. Латышев, А. А. Синченко, Л. Н. Булаевский, В. Н. Павленко, П. Монсо, “Когерентное туннелирование между элементарными проводящими слоями в проводнике с волной зарядовой плотности NbSe$\mathbf{_3}$”, Письма в ЖЭТФ, 75:2 (2002), 103–108; JETP Letters, 75:2 (2002), 93–97
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/jetpl3031 https://www.mathnet.ru/rus/jetpl/v75/i2/p103
|
Статистика просмотров: |
Страница аннотации: | 182 | PDF полного текста: | 59 | Список литературы: | 29 |
|