|
Письма в Журнал экспериментальной и теоретической физики, 2003, том 77, выпуск 7, страницы 430–433
(Mi jetpl2778)
|
|
|
|
Эта публикация цитируется в 9 научных статьях (всего в 9 статьях)
Подпороговое распыление при высоких температурах
М. И. Гусева, В. М. Гуреев, Б. Н. Колбасов, С. Н. Коршунов, Ю. В. Мартыненко, В. Б. Петров, Б. И. Хрипунов Российский научный центр "Курчатовский институт", г. Москва
Аннотация:
Обнаружено распыление вольфрама ионами дейтерия с энергией 5 эВ при температуре мишени во время облучения 1470 К в плотной стационарной плазме. Известный в литературе порог распыления вольфрама ионами дейтерия составляет 160–200 эВ. Измеренный по потере веса коэффициент распыления вольфрама при энергии ионов дейтерия 5 эВ равен $1.5\cdot10^{-4}\,$атом/ион, что обычно наблюдается при энергии 250 эВ. Распылению сопутствует изменение рельефа поверхности: протравливание границ зерен и образование на поверхности вольфрама волнистой структуры. Обнаруженное подпороговое распыление объясняется потенциальным распылением адсорбированных атомов вольфрама, поступающих на поверхность при высокой температуре из межзеренного пространства в результате освобождения из ловушек междоузельных атомов. Волнообразная структура на поверхности – результат объединения адсорбированных атомов в упорядоченные кластеры.
Поступила в редакцию: 25.02.2003
Образец цитирования:
М. И. Гусева, В. М. Гуреев, Б. Н. Колбасов, С. Н. Коршунов, Ю. В. Мартыненко, В. Б. Петров, Б. И. Хрипунов, “Подпороговое распыление при высоких температурах”, Письма в ЖЭТФ, 77:7 (2003), 430–433; JETP Letters, 77:7 (2003), 362–365
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/jetpl2778 https://www.mathnet.ru/rus/jetpl/v77/i7/p430
|
|