|
Письма в Журнал экспериментальной и теоретической физики, 2004, том 80, выпуск 6, страницы 489–492
(Mi jetpl2128)
|
|
|
|
Эта публикация цитируется в 10 научных статьях (всего в 10 статьях)
КОНДЕНСИРОВАННЫЕ СРЕДЫ
Переход приповерхностного $\delta$-слоя туннельной структуры Al/$\delta$(Si)–GaAs в диэлектрическое состояние под давлением
Е. М. Дижурa, А. Н. Вороновскийa, А. В. Федоровa, И. Н. Котельниковb, С. Е. Дижурb a Институт физики высоких давлений им. Л. Ф. Верещагина РАН, 142190 Троицк, Россия
b Институт радиотехники и электроники РАН, 125009 Москва, Россия
Аннотация:
Измерены туннельная и латеральная проводимости туннельной структуры Al/GaAs с приповерхностным слоем $\delta$-легирования кремнием при гелиевых температурах под гидростатическим давлением до $3$ ГПа. Обнаружен переход $\delta$-слоя в диэлектрическое состояние при давлении $\approx 2$ ГПа. Туннельное сопротивление растет при этом монотонно (в логарифмическом масштабе), а туннельная аномалия сопротивления при нулевом смещении проходит через резкий пик. Эти результаты интерпретируются в рамках представлений о влиянии давления на зонную структуру и поведение DX-уровней.
Поступила в редакцию: 12.08.2004
Образец цитирования:
Е. М. Дижур, А. Н. Вороновский, А. В. Федоров, И. Н. Котельников, С. Е. Дижур, “Переход приповерхностного $\delta$-слоя туннельной структуры Al/$\delta$(Si)–GaAs в диэлектрическое состояние под давлением”, Письма в ЖЭТФ, 80:6 (2004), 489–492; JETP Letters, 80:6 (2004), 433–435
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/jetpl2128 https://www.mathnet.ru/rus/jetpl/v80/i6/p489
|
Статистика просмотров: |
Страница аннотации: | 205 | PDF полного текста: | 51 | Список литературы: | 44 |
|