|
Твердотельная электроника, микро- и наноэлектроника
Влияние давления аргона на текстуру и микроструктуру пленок кобальта, осаждаемых магнетронным распылением
А. С. Джумалиев, Ю. В. Никулин Саратовский филиал Института радиотехники и электроники им. В. А. Котельникова РАН
Аннотация:
Исследовано влияние давления рабочего газа аргона (0.13-0.09 $\leq$ P $\leq$ 1 Па) на микроструктуру и текстуру пленок кобальта, наносимых методом магнетронного распыления на постоянном токе на подложки SiO$_2$/Si при комнатной температуре. Показано, что при высоких давлениях аргона P $\approx$ 1-0.22 Па пленки кобальта обладают столбчатой микроструктурой по толщине, а кристаллическая структура пленок соответствует смешанной кристаллической фазе: гексагональной плотноупакованной (гпу) с текстурой (002) и гранецентрированной кубической (гцк) с текстурой (111). Пленки, полученные при P $\approx$ 0.13-0.09 Па, характеризуются кристаллической фазой с гцк кристаллической решеткой с текстурой (200) и неоднородны по толщине - на границе с подложкой в слое толщиной d$_c$ пленки обладают квазиоднородной микроструктурой, а при толщинах d > d$_c$ микроструктура пленки изменяется на «квазистолбчатую».
Ключевые слова:
кобальт, тонкие пленки, текстура, микро-структура, магнетронное распыление, рентгеновская дифракция, электронная микроскопия.
Образец цитирования:
А. С. Джумалиев, Ю. В. Никулин, “Влияние давления аргона на текстуру и микроструктуру пленок кобальта, осаждаемых магнетронным распылением”, Изв. Сарат. ун-та. Нов. cер. Сер. Физика, 17:4 (2017), 254–262
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/isuph300 https://www.mathnet.ru/rus/isuph/v17/i4/p254
|
Статистика просмотров: |
Страница аннотации: | 36 | PDF полного текста: | 19 | Список литературы: | 12 |
|