|
Известия Саратовского университета. Новая серия. Серия: Физика, 2015, том 15, выпуск 2, страницы 18–31
(Mi isuph229)
|
|
|
|
Эта публикация цитируется в 2 научных статьях (всего в 2 статьях)
Физика
Неравновесная СВЧ-плазма низкого давления в научных исследованиях и разработках микро- и наноэлектроники
Р. К. Яфаров Саратовский филиал Института радиотехники и электроники им. В. А. Котельникова РАН
Аннотация:
Рассмотрены достоинства и преимущества использования для реализации нанотехнологий высокоионизованной низкоэнергетичной СВЧ-плазмы низкого давления. Показано, что по своим функциональным возможностям одна установка на основе СВЧ-плазмы может заменить 4-5 установок с обычным высокочастотным возбуждением газового разряда.
Ключевые слова:
вакуумно-плазменное технологическое оборудование, нанотехнологии, СВЧ-плазма низкого давления, поверхностное структурирование, кремний, СВЧ плазмохимическое травление, квантово- размерные системы.
Образец цитирования:
Р. К. Яфаров, “Неравновесная СВЧ-плазма низкого давления в научных исследованиях и разработках микро- и наноэлектроники”, Изв. Сарат. ун-та. Нов. cер. Сер. Физика, 15:2 (2015), 18–31
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/isuph229 https://www.mathnet.ru/rus/isuph/v15/i2/p18
|
Статистика просмотров: |
Страница аннотации: | 47 | PDF полного текста: | 46 | Список литературы: | 19 |
|