|
ФИЗИКО-МАТЕМАТИЧЕСКИЕ НАУКИ
Особенности кристаллографической структуры буферных слоев CeO$_2$ на $r$-Al$_2$O$_3$ полученных методом импульсного лазерного осаждения
А. П. Носовa, С. С. Дубининb, В. И. Осотовb a Институт физики металлов им. М.Н. Михеева УрО РАН, г. Екатеринбург
b Уральский федеральный университет им. первого Президента России Б. Н. Ельцина, г. Екатеринбург
Аннотация:
В работе представлены результаты структурных исследований буферных слоев CeO$_2$ выращенных методом импульсного лазерного осаждения на монокристаллических подложках из $r$-Al$_2$O$_3$(1102) при температуре подожки 750$^{\circ}$С. Экспериментально показано, что при изменении давления кислорода в процессе роста, в условиях сохранения неизменными остальных параметров роста, возможно получение буферных слоев с разной кристаллографической ориентацией: при давлении кислорода 0,002 мбар буферные слои имеют ориентацию (111), а при давлении кислорода 0,2 мбар–(002). Полученные результаты могут представлять интерес для получения эпитаксиальных пленок и наногетероструктур со слоями из высокотемпературных сверхпроводников и допированных манганитов на монокристаллических подложках $r$-Al$_2$O$_3$ с буферными слоями из CeO$_2$.
Ключевые слова:
тонкие пленки, импульсное лазерное осаждение, CeO$_2$, $r$-Al$_2$O$_3$.
Образец цитирования:
А. П. Носов, С. С. Дубинин, В. И. Осотов, “Особенности кристаллографической структуры буферных слоев CeO$_2$ на $r$-Al$_2$O$_3$ полученных методом импульсного лазерного осаждения”, Междунар. науч.-исслед. журн., 2019, № 12(90), 26–29
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/irj560 https://www.mathnet.ru/rus/irj/v90/i12/p26
|
|