Моделирование перегретой литиевой плазмы применительно к задачам разработки источника ЭУФ-излучения

Проведены оценки эффективности источника экстремального ультрафиолетового (ЭУФ) излучения на основе перегретой литиевой плазмы. Рассмотрен плоский слой лития толщины 0.01 см. На основании элементарных процессов, протекающих в плазме, написаны и численно решены уравнения поуровневой кинетики. Для учëта полей излучения применялся как метод escape-фактора, так и более точный метод (программа BELINE), в котором поле излучения и поуровневая кинетика учитываются самосогласованным образом. Расчëты проведены для температур $T=5\div 50$ эВ и плотностей свободных электронов $N_e=10^{10}\div 10^{19}$ 1/см$^3$.