|
Физика твердого тела, 2016, том 58, выпуск 5, страницы 1019–1023
(Mi ftt9995)
|
|
|
|
Эта публикация цитируется в 6 научных статьях (всего в 6 статьях)
Физика поверхности, тонкие пленки
Осаждение текстурированных пленок NiFe(200) и NiFe(111) на подложки Si/SiO$_{2}$ магнетронным распылением на постоянном токе
А. С. Джумалиевab, Ю. В. Никулинba, Ю. А. Филимоновbac a Саратовский государственный университет им. Н. Г. Чернышевского
b Саратовский филиал Института радиотехники и электроники РАН
c Саратовский государственный технический университет имени Гагарина Ю. А.
Аннотация:
Исследовано влияние температуры $T_{\operatorname{sub}}$ и напряжения смещения $U_{\operatorname{bias}}$ подложки на текстуру пленок NiFe с толщиной $d\sim$ 30–340 nm, полученных магнетронным распылением на постоянном токе на подложках Si(111)/SiO$_{2}$ при давлении рабочего газа $P\sim$ 0.2 Pa. Показано, что пленки, выращенные при комнатной температуре подложки, имеют текстуру (111), которая улучшается при отрицательном напряжении смещения. Осаждение пленок на заземленную ($U_{\operatorname{bias}}\sim$ 0) подложку, нагретую до температуры $T_{\operatorname{sub}}\sim$ 440–640 K, приводит к формированию текстурированных пленок NiFe(200).
Поступила в редакцию: 27.10.2015
Образец цитирования:
А. С. Джумалиев, Ю. В. Никулин, Ю. А. Филимонов, “Осаждение текстурированных пленок NiFe(200) и NiFe(111) на подложки Si/SiO$_{2}$ магнетронным распылением на постоянном токе”, Физика твердого тела, 58:5 (2016), 1019–1023; Phys. Solid State, 58:5 (2016), 1053–1057
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/ftt9995 https://www.mathnet.ru/rus/ftt/v58/i5/p1019
|
Статистика просмотров: |
Страница аннотации: | 33 | PDF полного текста: | 9 |
|