Оптическая дифракция на двумерных фотонных структурах с гексагональной симметрией

Методом аддитивной технологии лазерной литографии созданы фотонные структуры с гексагональной симметрией и исследованы их оптические свойства. Структура образцов изучалась методом сканирующей электронной микроскопии. Выполнены расчеты оптической дифракции в борновском приближении теории рассеяния для структур с ограниченным числом рассеивателей. Рассчитывались изображения, возникающие при монохроматическом освещении на плоском экране, расположенном за образцом. Картины дифракции на экране имеют симметрию $C_{6v}$ и состоят из трех пересекающихся под углом 120$^\circ$ прямых и гипербол, число которых кратно шести. Важной особенностью этих картин является сверхструктура, т. е. разбиение прямых и гипербол на отдельные дифракционные рефлексы, число которых определяется числом рассеивателей конкретного образца. Результаты экспериментального исследования дифракционных картин полностью совпадают с расчетными, включая число и расположение сверхструктурных рефлексов.