|
Физика поверхности, тонкие пленки
Сравнительный анализ толщины и электрической проводимости тонких халькогенидных полупроводниковых пленок
В. В. Даньшина, Л. Ф. Калистратова Омский государственный технический университет
Аннотация:
Проведено рентгенографическое исследование структуры и толщины полупроводниковых пленок халькогенидов цинка и кадмия. Показано, что толщина пленок соизмерима с глубиной половинного слоя ослабления рентгеновских лучей. При нагревании в атмосфере водорода электрическая проводимость пленок увеличивается, а при нагревании в оксиде углерода уменьшается. Получена противоположная тенденция в соотношении величин электрической проводимости и ширины запрещенной зоны исходной и окисленной поверхностей пленок.
Поступила в редакцию: 11.05.2016
Образец цитирования:
В. В. Даньшина, Л. Ф. Калистратова, “Сравнительный анализ толщины и электрической проводимости тонких халькогенидных полупроводниковых пленок”, Физика твердого тела, 59:1 (2017), 172–175; Phys. Solid State, 59:1 (2017), 180–183
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/ftt9726 https://www.mathnet.ru/rus/ftt/v59/i1/p172
|
Статистика просмотров: |
Страница аннотации: | 38 | PDF полного текста: | 16 |
|