Аннотация:
Проведено рентгенографическое исследование структуры и толщины полупроводниковых пленок халькогенидов цинка и кадмия. Показано, что толщина пленок соизмерима с глубиной половинного слоя ослабления рентгеновских лучей. При нагревании в атмосфере водорода электрическая проводимость пленок увеличивается, а при нагревании в оксиде углерода уменьшается. Получена противоположная тенденция в соотношении величин электрической проводимости и ширины запрещенной зоны исходной и окисленной поверхностей пленок.
Образец цитирования:
В. В. Даньшина, Л. Ф. Калистратова, “Сравнительный анализ толщины и электрической проводимости тонких халькогенидных полупроводниковых пленок”, Физика твердого тела, 59:1 (2017), 172–175; Phys. Solid State, 59:1 (2017), 180–183