Кинетика электронно-лучевой кристаллизации аморфных пленок ZrO$_{2}$, полученных ионно-плазменным и лазерным напылением

Проведено сопоставление структуры и кинетики электронно-лучевой кристаллизации аморфных пленок ZrO$_{2}$, полученных с помощью ионно-плазменного и лазерного напыления. Исследования выполнены методами электронографии и просвечивающей электронной микроскопии со съемками видео-фильмов in situ. Воздействие на аморфную пленку электронного луча в вакууме сопровождается образованием микрокристаллов диоксида циркония с решеткой ГЦК. При лазерном испарении плотность центров кристаллизации $\beta\sim$ 10$^{9}$ cm$^{-2}$, а характерная единица длины $D_{0}\sim$ 0.48 $\mu$m. При ионно-плазменном испарении $\beta\sim$ 10$^{10}$ cm$^{-2}$, а $D_{0}\sim$ 0.06 $\mu$m. Анализ кинетических кривых кристаллизации аморфных пленок проведен на основе $\beta$-варианта модели Колмогорова.