Электронно-микроскопическое исследование кинетики слоевой и островковой кристаллизации аморфных пленок V$_{2}$O$_{3}$, осажденных импульсным лазерным напылением

Проведено электронно-микроскопическое исследование кинетики слоевой и островковой кристаллизации аморфных пленок V$_{2}$O$_{3}$, осажденных лазерным распылением V в атмосфере кислорода. Кристаллизацию инициировали воздействием электронного луча на аморфную пленку в колонне микроскопа. Кинетические кривые строили на основании покадрового анализа видеофильма, снятого в процессе кристаллизации пленки. Установлено, что при слоевой кристаллизации имеет место квадратичная зависимость доли кристаллической фазы $x$ от времени $t$. При островковой кристаллизации зависимость $x$ от $t$ экспоненциальная. Анализ кинетических кривых островковой кристаллизации проведен на основе $\alpha$-варианта модели Колмогорова. Типу кристаллизации ставится в соответствие безразмерная относительная единица длины $\delta_{0}$, равная отношению характерной единицы длины к параметру, характеризующему элементарную ячейку кристалла. Для слоевой кристаллизации $\delta_{0}\sim$4300–4700. Для мелкокристаллической островковой кристаллизации $\delta_{0}\sim$110.