Химический и фазовый состав многослойных нанопериодических структур $a$-SiO$_{x}$/ZrO$_{2}$, подвергнутых высокотемпературному отжигу

Методом рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии с послойным травлением выполнен анализ химического и фазового состава многослойных нанопериодических структур SiO$_{x}$/ZrO$_{2}$, полученных испарением в вакууме из раздельных источников и подвергнутых высокотемпературному отжигу. Установлено, что при используемых условиях напыления слои субоксида кремния имели коэффициент стехиометричности $x\sim$1.8, а цирконийсодержащие слои представляли собой стехиометрический диоксид циркония. С помощью рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии обнаружено, что отжиг многослойных структур при 1000$^\circ$C приводит к взаимодиффузии компонентов и химическому взаимодействию ZrO$_{2}$ и SiO$_{x}$ c образованием преимущественно силиката циркония на гетерограницах структур. Слои SiO$_{x}$ отожженных наноструктур содержали $\sim$5 at.% элементарного кремния как следствие фазового разделения и формирования нанокристаллов кремния малого размера.