Транспленочная пассивация границы раздела кремний–нанопленки иттербия хемосорбированными на их поверхности молекулами CO и O$_{2}$

Обнаружена и исследована пассивация границы раздела кремний–пленки иттербия нанометровой толщины молекулами СО и О$_{2}$, хемосорбированными на противоположной стороне пленок. Установлен механизм транспленочного торможения силицидообразования. Он обусловлен кулоновским взаимодействием между локализованными электронами, формирующими донорно-акцепторную связь молекул с пленками, и электронами проводимости (6$s$-зона) иттербия. Это взаимодействие повышает энергию систем слой хемосорбированных молекул–пленки иттербия. При заданном количестве хемосорбированных молекул это повышение будет больше в случае более тонких пленок. Такая связь с толщиной пленок и обусловливает в конечном счете отсутствие химического взаимодействия между кремнием и иттербием в случае, когда на поверхности нанопленок последнего хемосорбированы молекулы СО и О$_{2}$.