Электронно-лучевая зарядка диэлектриков, предварительно облученных ионами и электронами средних энергий

Изучены эффекты зарядки диэлектрических мишеней при облучении электронами средних энергий в сканирующем электронном микроскопе. Установлены существенные различия кинетики зарядки для исходных образцов и образцов, предварительно облученных электронами и ионами. Эти различия объясняются радиационно-стимулированным дефектообразованием в образцах Al$_{2}$O$_{3}$ (сапфир) и SiO$_{2}$, имеющим, однако, различную природу. Показана роль модификации структуры поверхности и изменения электрофизических характеристик поверхности, в частности эффекта растекания зарядов. Обнаружены критические значения дозы облучения как ионами Ar$^{+}$, так и электронами, при которых начинается активное дефектообразование в диэлектрических мишенях, а также критические значения внутренних полей зарядов, вносящих существенный вклад во временны́е характеристики зарядки Al$_{2}$O$_{3}$ и SiO$_{2}$.