Аннотация:
В рамках модели Халдейна–Андерсона вычислены металлическая ионная составляющие энергии адсорбции атомов Ga и Cl на С- и Si-гранях p- и n-SiC. Показано, во-первых, что во всех рассмотренных случаях величина ионного вклада превосходит величину вклада металлического. Во-вторых, при адсорбции на p-SiC энергия связи адатомов Ga больше, чем адатомов Cl, тогда как при адсорбции на n-SiC имеет место обратная ситуация. Предложена простая ионная модель адсорбции молекулы GaCl на карбиде кремния. Сопоставление с результатами других авторов демонстрируют приемлемость предлагаемых моделей.
Ключевые слова:
зонные и локальные состояния, числа заполнения, энергия адсорбции.
Поступила в редакцию: 18.09.2019 Исправленный вариант: 18.09.2019 Принята в печать: 24.09.2019
Образец цитирования:
С. Ю. Давыдов, О. В. Посредник, “Адсорбция атомов Ga и Cl и молекулы GaCl на карбиде кремния: модельный подход”, Физика твердого тела, 62:2 (2020), 298–301; Phys. Solid State, 62:2 (2020), 350–353