Аннотация:
Методом магнетронного распыления изготовлены тонкие пленки NbN. Пленки изготовлены на сапфировых подложках при температурах 20–300∘C. Температура перехода в сверхпроводящее состояние для различных образцов в зависимости от температуры подложки при напылении составила 8–14 K. Плотность критического тока jc лежит в диапазоне 0.8–8 MA/cm2, что позволяет использовать данные пленки для создания многослойных структур, ввиду отсутствия отжигов, которым подвергается каждый нижележащий слой структур при напылении следующего.
Ключевые слова:
Тонкие сверхпроводящие пленки NbN, плотность критического тока перехода тонких пленок NbN, магнетронное распыление.
Образец цитирования:
Б. А. Гурович, Б. В. Гончаров, К. Е. Приходько, Л. В. Кутузов, Л. В. Столяров, Е. М. Малиева, “Создание тонких пленок NbN при комнатной температуре подложки”, Физика твердого тела, 63:9 (2021), 1238–1240; Phys. Solid State, 63:9 (2021), 1366–1368
\RBibitem{GurGonPri21}
\by Б.~А.~Гурович, Б.~В.~Гончаров, К.~Е.~Приходько, Л.~В.~Кутузов, Л.~В.~Столяров, Е.~М.~Малиева
\paper Создание тонких пленок NbN при комнатной температуре подложки
\jour Физика твердого тела
\yr 2021
\vol 63
\issue 9
\pages 1238--1240
\mathnet{http://mi.mathnet.ru/ftt8022}
\crossref{https://doi.org/10.21883/FTT.2021.09.51245.35H}
\elib{https://elibrary.ru/item.asp?id=46690883}
\transl
\jour Phys. Solid State
\yr 2021
\vol 63
\issue 9
\pages 1366--1368
\crossref{https://doi.org/10.1134/S1063783421090092}
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/ftt8022
https://www.mathnet.ru/rus/ftt/v63/i9/p1238
Эта публикация цитируется в следующих 2 статьяx:
D. M. Gokhfeld, N. E. Savitskaya, S. I. Popkov, N. D. Kuzmichev, M. A. Vasyutin, D. A. Balaev, “Anisotropic Magnetization of an NbN Film”, J. Exp. Theor. Phys., 134:6 (2022), 707
M. A. Vasyutin, E. V. Danilova, N. D. Kuz'michev, “Estimating the maximum heating of low temperature NbN film with a current pulse: calculations by heat conduction equation”, Thermophys. Aeromech., 29:3 (2022), 449