|
Физика твердого тела, 2016, том 58, выпуск 2, страницы 242–245
(Mi ftt10069)
|
|
|
|
Эта публикация цитируется в 1 научной статье (всего в 1 статье)
Полупроводники
Распределение изотопов $^{28}$Si, $^{29}$Si и $^{30}$Si под действием пластической деформации в приповерхностных слоях кристаллов Si : B
О. В. Коплакab, М. А. Васильевc, Р. Б. Моргуновa a Институт проблем химической физики РАН, г. Черноголовка Московской обл.
b Киевский государственный университет им. Т. Г. Шевченко
c Институт металлофизики им. Г. В. Курдюмова НАН Украины, Киев, Украина
Аннотация:
Обнаружено перераспределение изотопов $^{28}$Si, $^{29}$Si и $^{30}$Si в приповерхностных слоях монокристаллов Si : B после их пластической деформации. Установлено, что после деформации профиль распределения изотопов $^{28}$Si, $^{29}$Si становится более плавным, а распределение изотопа $^{30}$Si не изменяется. Обнаружено изменение приповерхностного профиля оксида $^{29}$SiO, которое свидетельствует о миграции изотопа $^{29}$Si в составе кислородных комплексов при пластической деформации.
Поступила в редакцию: 02.07.2015
Образец цитирования:
О. В. Коплак, М. А. Васильев, Р. Б. Моргунов, “Распределение изотопов $^{28}$Si, $^{29}$Si и $^{30}$Si под действием пластической деформации в приповерхностных слоях кристаллов Si : B”, Физика твердого тела, 58:2 (2016), 242–245; Phys. Solid State, 58:2 (2016), 247–250
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/ftt10069 https://www.mathnet.ru/rus/ftt/v58/i2/p242
|
Статистика просмотров: |
Страница аннотации: | 37 | PDF полного текста: | 20 |
|