|
|
|
Публикации в базе данных Math-Net.Ru |
Цитирования |
|
2017 |
| 1. |
В. М. Король, А. В. Заставной, Y. Kudriavtsev, R. Asomoza, “Отрицательный отжиг в кремнии при высоковольтной имплантации натрия”, Физика и техника полупроводников, 51:5 (2017), 579–584   ; V. M. Korol', A. V. Zastavnoi, Y. Kudriavtsev, R. Asomoza, “Negative annealing in silicon after the implantation of high-energy sodium ions”, Semiconductors, 51:5 (2017), 549–555 |
|
2016 |
| 2. |
А. В. Заставной, В. М. Король, “Низкотемпературная диффузия натрия, имплантированного в кремний”, Письма в ЖТФ, 42:8 (2016), 53–60 ; A. V. Zastavnoi, V. M. Korol', “Low-temperature diffusion of implanted sodium in silicon”, Tech. Phys. Lett., 42:4 (2016), 415–418 |
6
|
|
Обратная связь: