|
|
Публикации в базе данных Math-Net.Ru |
Цитирования |
|
2021 |
1. |
И. Е. Тысченко, M. Voelskow, Сы Чжунбинь, В. П. Попов, “Диффузия атомов In в пленках SiO$_{2}$, имплантированных ионами As$^{+}$”, Физика и техника полупроводников, 55:3 (2021), 217–223 ; I. E. Tyschenko, M. Voelskow, Si. Zh, V. P. Popov, “Diffusion of In atoms in SiO$_{2}$ films implanted with As$^{+}$ ions”, Semiconductors, 55:3 (2021), 289–295 |
|